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單晶圓清洗機

作者:晶誠電子   |   閱讀次數: 5875次

適用于硅片晶圓濕法清洗、濕法刻蝕、顯影、去膠、LIFT-OFF等工藝;
標準吸盤適用于2-12英寸晶圓,其它規格可定制;
一體式清洗腔體;
進口伺服電機控制,轉速及工藝時間參數可自由設定;
采用進口專用旋轉電機,運行安靜平穩,故障率低;
真空吸盤采用PEEK+PTFE材質,強度高、耐腐蝕、密封性能好;
載片臺采用真空吸附+PIN定位,防止甩片碎片;真空度≤-100KPa;
化學液及純水自動供應,流量可視可調;
可裝配裝取片機器人;
配套藥液供應系統;
配有兆聲清洗,兆聲頻率280-950KHz可選,功率連續可調;
可配置滾刷刷洗;
最高轉速可達3500RPM+;
工藝參數可設定存儲;
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